第九十一章 芯片与光刻（3/4）

然后，将晶圆浸入特制的溶液当中。

如此一来，被胶覆盖着的地方，晶圆被保护了起来，没有变化。而那些没有胶的地方，特制溶液就将晶圆腐蚀了。

腐蚀的痕迹，自然就和电路图案相同或者相反。

晶圆从特殊溶液中取出，用纯净水一冲，上面就留下了所需要的电路图案。

所以，与其说是光刻，不如说是蚀刻，腐蚀雕刻，只是这种“腐蚀雕刻”比一般所说的腐蚀雕刻在精度上高了N个等级，不可同日而语，所以起了个比较高大上的名字“光刻”。

大致原理如此，但知易行难。

一个小小的芯片，集成的电路宛若一个小型的世界，这里面的精度以纳米计算。

只是辅助生产用的光刻胶，它所限制的厚度也都是以纳米来计算。

譬如20纳米制程的芯片制造，需要的光刻胶厚度就不能超过100个纳米，更为先进的3-10纳米制程芯片，它所需要的光刻胶厚度就可想而知了。

周飞宇暗暗思考了一会，知道以飞扬新材料目前的设备以及制程能力来说，还达不到这种技术，还需要一段时间的发展和扩充。

“方便透露下，中正公司目前是在和哪家公司联合研发这一块吗？”

周飞宇嘴上却没说什么，反而问了起来。